|
|||||
|
|
| 基于非晶硅的红外焦平面阵列微桥结构的研究 | |
| 引用本文： | 刘欢,王珊珊,宋亮.基于非晶硅的红外焦平面阵列微桥结构的研究[J].科技资讯,2008(27). |
| 作者姓名： | 刘欢 王珊珊 宋亮 |
| 作者单位： | 西安工业大学光电微系统研究所 中国兵器工业集团第212研究所 |
| 基金项目： | 西安市科技局创新基金研究项目 |
| 摘 要： | 近年来,集成非制冷红外焦平面阵列技术的发展和应用成为国内外研究的热点。本文从红外材料的确定,探测结构的选择入手,通过大量的流片实验,对基于非晶硅的非制冷红外探测微桥结构制作工艺进行了系统的研究,得到一套合适的工艺参数,并成功制作出160×120规模的微桥结构阵列。 |
| 关 键 词： | 光刻 等离子刻蚀 牺牲层 非晶硅 微桥结构 |
| 本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录！ | |