a—Si:H薄膜的激光诱导结晶 |
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引用本文: | 孟祥东.a—Si:H薄膜的激光诱导结晶[J].松辽学刊,2004,25(1):28-29,32. |
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作者姓名: | 孟祥东 |
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摘 要: | 利用等离子体增强化学气相淀积(PECVD)系统制备了a—Si:H薄膜.使用KrF准分子脉冲激光对a-Si:H薄膜进行辐照,使a-Si:H晶化.拉曼散射谱和电子衍射谱的结果表明经过激光辐照后在a—Si:H层形成纳米硅颗粒.
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关 键 词: | 薄膜 激光诱导结晶 等离子体增强 化学气相淀积 硅 半导体材料 |
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