退火温度对TiO2薄膜光学性能的影响 |
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引用本文: | 侯亚奇,庄大明,张弓,赵明,吴敏生. 退火温度对TiO2薄膜光学性能的影响[J]. 清华大学学报(自然科学版), 2003, 43(11): 1441-1443 |
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作者姓名: | 侯亚奇 庄大明 张弓 赵明 吴敏生 |
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作者单位: | 清华大学,机械工程系,北京,100084 |
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基金项目: | 国家教育振兴计划资助项目 |
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摘 要: | ![]() 为确定合适的TiO2薄膜退火工艺,研究了退火温度对采用中频交流反应磁控溅射技术制备的TiO2薄膜光学性能的影响.利用分光光度计测得石英玻璃基体TiO2薄膜试样的透射谱和反射谱,用包络线法和经验公式法计算出薄膜的光学常数.结果表明 TiO2薄膜的折射率随退火温度的上升而增加,低温退火时薄膜消光系数略有减小, 500 ℃退火时TiO2薄膜具有最优的光学性能.
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关 键 词: | 薄膜光学 TiO2薄膜 中频交流磁控溅射 退火 |
文章编号: | 1000-0054(2003)11-1441-03 |
修稿时间: | 2002-12-04 |
Influence of annealing temperature on optical properties of titanium oxide thin films |
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Abstract: | ![]()
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Keywords: | thin film optics titanium oxide thin film mid-frequency AC magnetron sputtering annealing |
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