首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

退火温度对TiO2薄膜光学性能的影响
引用本文:侯亚奇,庄大明,张弓,赵明,吴敏生. 退火温度对TiO2薄膜光学性能的影响[J]. 清华大学学报(自然科学版), 2003, 43(11): 1441-1443
作者姓名:侯亚奇  庄大明  张弓  赵明  吴敏生
作者单位:清华大学,机械工程系,北京,100084
基金项目:国家教育振兴计划资助项目
摘    要:
为确定合适的TiO2薄膜退火工艺,研究了退火温度对采用中频交流反应磁控溅射技术制备的TiO2薄膜光学性能的影响.利用分光光度计测得石英玻璃基体TiO2薄膜试样的透射谱和反射谱,用包络线法和经验公式法计算出薄膜的光学常数.结果表明 TiO2薄膜的折射率随退火温度的上升而增加,低温退火时薄膜消光系数略有减小, 500 ℃退火时TiO2薄膜具有最优的光学性能.

关 键 词:薄膜光学   TiO2薄膜   中频交流磁控溅射   退火
文章编号:1000-0054(2003)11-1441-03
修稿时间:2002-12-04

Influence of annealing temperature on optical properties of titanium oxide thin films
Abstract:
Keywords:thin film optics  titanium oxide thin film  mid-frequency AC magnetron sputtering  annealing
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号