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杂志ISSN号
二氧化锡薄膜的PECVD制备的特性
作者姓名:
刘彭义 陈俊芳
作者单位:
[1]暨南大学物理系 [2]华南师范大学量子电子研究所
摘 要:
用PECVD方法制备出二氧化锡薄膜,利用双探针技术诊断出等子体反应器内电子密度的分布,并分析了它对薄膜电阻的影响,透射电镜分析表明随沉积温度升高,二氧化锡薄膜从非晶态转变为多晶态,其电阻庇随之减小,掺锑的二氧化锡薄膜对石油液化气和酒精具有良好的气敏效应。
关 键 词:
二氧化锡薄膜 透射电镜 气敏性 PECVD法
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