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| 曲面抛光的材料去除模型与摆线轨迹控制 | |
| 引用本文： | 王清辉,谢柳杰,许晨旸,陈锐奇,周雪峰.曲面抛光的材料去除模型与摆线轨迹控制[J].华南理工大学学报(自然科学版),2018(3). |
| 作者姓名： | 王清辉 谢柳杰 许晨旸 陈锐奇 周雪峰 |
| 作者单位： | 华南理工大学机械与汽车工程学院;广东省智能制造研究所 |
| 摘 要： | 基于柔性盘抛光的材料去除模型,提出了沿摆线轨迹的曲面抛光参数控制方法.首先确定柔性盘与表面的接触状态,采用支持向量机方法建立下压力预测模型,确定接触区的压力分布规律,并依据Preston方程建立材料去除模型,进而依据摆线半径和步距的相对关系,将摆线分为单周期内存在2个交叠区与3个交叠区两种情况,在去除模型基础上将单道摆线分为两部分单独叠加,再根据交叠区宽度作总叠加,控制摆线轨迹参数实现最优去除率分布效果.去除率仿真实验和工业机器人抛光实验结果表明,精抛后工件表面粗糙度达0.57μm,说明提出的摆线轨迹参数控制方法适用于高精度曲面抛光. |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |