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表面处理对活性氧化镁晶粒尺寸增长速度的影响
引用本文:李楠,嵇宏坤.表面处理对活性氧化镁晶粒尺寸增长速度的影响[J].武汉科技大学学报(自然科学版),1981(1).
作者姓名:李楠  嵇宏坤
摘    要:一、引言在活化烧结研究中,各种母盐的最佳煅烧温度都远高于它们的分解温度。这样不仅要消耗更多的燃料,而且随着煅烧温度的提高,氧化镁的晶粒长大,表面积降低,影响活性。产生这种现象的原因常常归结于“假像”的存在。即在低于最佳煅烧温度的条件下,分解后的氧化镁在外形上仍保持原来母盐颗粒的外形。但是,对于母盐形成的原因,它对烧结影响的机理至今尚不清楚。从而妨碍人们对活性烧结的本质的进一步了解。我们认为轻烧氧化镁的活性可能和氧化物表面的吸附态有关。也许正是这些吸附在微晶氧化镁表面上的吸附基团是形成母盐假像的原因之一。因此,可采用一些物理化学方法来处理活性氧化镁,改变其吸附态即可达到破坏或削弱母盐假像的影响。这样,就可以在母盐化合物分解温度下制取活

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