| SmOx/Rh(100)模型表面的制备与性质 |
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| 引用本文： | 马运生,朱俊发,庄叔贤,姜志全,周维平,翟润生,包信和.SmOx/Rh(100)模型表面的制备与性质[J].科学通报,2002,47(6):415-417. |
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| 作者姓名： | 马运生 朱俊发 庄叔贤 姜志全 周维平 翟润生 包信和 |
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| 作者单位： | 1. 中国科学技术大学化学物理系,合肥,230026
2. 中国科学院大连化学物理研究所催化基础研究国家重点实验室,大连116023 |
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| 基金项目： | 本工作为国家自然科学基金（批准号:29873042），催化基础重点实验室基金资助项目。 |
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| 摘 要： | 应用Auger电子能谱（AES），X射线光电子能谱（XPS）和程序升温热脱附谱（TDS）研究了SmOx/Rh(100)模型表面的制备及CO在该表面的吸附。Sm和氧的强亲合作用经起了Sm在表面的强烈偏析。氧化表面的高温热处理，导致SmOx在Rh（100）表面的进一步聚集，与120K吸附在清洁Rm(100)表面的CO的热脱附谱相比较，吸附在SmOx/Rh(100)表面的CO的热脱附谱中在176，331和600K出现了新的脱附峰，其中位于176K的脱附峰可归属于吸附在SmOx岛上的CO的脱附，而位于331，600K的脱附峰的出现与表面Sm原子的氧化程度有关，可分别归属为吸附在富氧和贫氧SmOx岛周界面Rh原子上的CO的脱附。
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| 关 键 词： | SmOx／Rh（100）模型表面 制备 Rh（100）表面 SmOx膜 CO吸附 AES LEED XPS TDS 催化剂 吸附态 吸附键能 |
| 收稿时间： | 2001-08-01 |
| 修稿时间： | 2001年8月1日 |
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