| (PSTT10/45)4 多层薄膜铁电性研究 |
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| 引用本文： | 李雪冬,刘洪,吴家刚,刘刚,肖定全,朱建国.(PSTT10/45)4 多层薄膜铁电性研究[J].科技咨询导报,2015,12(12). |
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| 作者姓名： | 李雪冬 刘洪 吴家刚 刘刚 肖定全 朱建国 |
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| 作者单位： | 1. 绵阳师范学院物理与电子信息工程系 四川绵阳 621000;四川大学材料科学与工程学院 四川成都 610064
2. 四川大学材料科学与工程学院 四川成都 610064
3. 绵阳师范学院物理与电子信息工程系 四川绵阳 621000 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金，绵阳师范学院科研课题 |
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| 摘 要： | 以LaNiO3做缓冲层,用射频磁控溅射法在SiO2/Si(100)衬底上制备出0.9Pb(Sc0.5Ta0.5)O3-0.1PbTiO3/0.55Pb(Sc0.5Ta0.5)O3-0.45PbTiO3]4铁电多层薄膜.采用两步法在峰值温度800 ℃对薄膜进行退火.通过x射线衍射分析了薄膜的物相结构,通过电滞回线和漏电流曲线对薄膜的铁电性能进行了测量.研究发现,薄膜展现出高度(100)取向的钙钛矿结构和增强的铁电性,其剩余极化2Pr=26.2 μc/cm2,矫顽场2Ec=53.9 kV/cm,100 kV/cm下漏电流密度为1.87×10-4A/cm2.分析了铁电性增强和漏电流增大的可能原因.
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| 关 键 词： | 多层薄膜 铁电性 电滞回线 XRD |
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