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| 加替沙星分子印迹聚合物膜电极的制备及应用 | |
| 引用本文： | 张羽佳,吕冰清,王胜娟,王远,王静,修荣.加替沙星分子印迹聚合物膜电极的制备及应用[J].河北师范大学学报(自然科学版),2014(5). |
| 作者姓名： | 张羽佳 吕冰清 王胜娟 王远 王静 修荣 |
| 作者单位： | 河北医科大学药学院; |
| 基金项目： | 国家自然科学基金(81202504);国家大学生创新创业训练计划项目(201310089013) |
| 摘 要： | 制备了加替沙星分子印迹聚合物膜电极,并研究了其性能,该电极具有良好的选择性和稳定性.电极在加替沙星浓度为1.0×10-5~1.0×10-2 mol/L内表现能斯特响应,斜率为57.44mV/pC,检测下限为5.6×10-5 mol/L.该电极成功用于加替沙星的测定,原料回收率为96%~101%. |
| 关 键 词： | 分子印迹聚合物 选择性电极 加替沙星 聚氯乙烯膜 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |