氧化物和盐类在分子筛内外表面及孔穴中的自发分散及？…

氧化物和盐类可在分子筛内外表面及孔穴中自发形成原子水平的分散，原因是分散后体系的熵可大大增加，同时在表面生成的新键，其强度和未分散时化合物内部的键强度不相上下，结果导致体系的总自由能下降。熔点较低的化合物的分散可通过它们与分子筛混合在适当温度下加热来实现；熔点较高的化合物的分散，则需要通过用其溶液浸渍分子筛后烘干和热分解来实现。