| 光学镀膜仪静态特性研究 |
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| 引用本文： | 许世军,任小玲.光学镀膜仪静态特性研究[J].黑龙江大学自然科学学报,2006,23(2):272-275. |
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| 作者姓名： | 许世军 任小玲 |
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| 作者单位： | 1. 西安工业学院,数理系,陕西,西安,710032;西安交通大学,理学院,陕西,西安,710049
2. 西安工程科技学院,计算机学院,陕西,西安,710048 |
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| 基金项目： | 兵器工业科研项目
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西安工业学院校科研和教改项目 |
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| 摘 要： | 光学镀膜仪的静态特性是高精度镀膜系统的重要因素。对典型镀膜仪的膜厚监视器的静态漂移数据,采用t检验、回归分析、方差分析、样本标准偏差和不确定度分析等方法获得其静态特性。发现不同预热时间有不同的系统静态特性;建立静态漂移的线性回归、二次回归数学模型,其线性漂移率为-5.5×10-5,二次漂移率为5.02322×10-8;显示值相对于期望曲线的最大偏差为±4×10-3。该静态特性详细、稳定和精确,为镀膜经验控制、膜系修正和自动化系统开发奠定了基础。
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| 关 键 词： | 光学薄膜 静态特性 回归分析 方差分析 镀膜仪 漂移率 |
| 文章编号： | 1001-7011(2006)02-0272-04 |
| 修稿时间： | 2005年10月16 |
Experimental investigation on static characteristics of optical thin-film deposition equipment |
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| XU Shi-jun,REN Xiao-ling.Experimental investigation on static characteristics of optical thin-film deposition equipment[J].Journal of Natural Science of Heilongjiang University,2006,23(2):272-275. |
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| Authors: | XU Shi-jun REN Xiao-ling |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | optical thin-film static characteristic regress analysis variance analysis thin-film deposition equipment drift rate |
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