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单源化学气相沉积法制备In2O3纳米线
引用本文:沈小平,赵慧,武世奎.单源化学气相沉积法制备In2O3纳米线[J].江苏大学学报(自然科学版),2007,28(3):216-219.
作者姓名:沈小平  赵慧  武世奎
作者单位:江苏大学,化学化工学院,江苏,镇江212013
基金项目:江苏大学校科研和教改项目 , 江苏大学微米纳米中心开放基金
摘    要:以乙酰丙酮合铟In(acac)3](acac=acetylacetonate)作为单源前驱体,Au为催化剂,采用化学气相沉积法,于较低温度(550℃)下成功制得了In2O3纳米线.用X射线粉末衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)和能量分散光谱(EDS)对In2O3纳米线进行了表征;制得的In2O3纳米线具有单晶结构,平均直径约为80nm,长度达十几微米,其生长服从气一液一固机理.光致发光研究发现,In2O3纳米线在483nm处有一个强的发射峰,这可归因于氧空位的存在.

关 键 词:纳米线  In2O3  化学气相沉积  制备
文章编号:1671-7775(2007)03-0216-04
修稿时间:2006年9月26日

Preparation of In2O3 nanowires by single-source chemical vapor deposition method
SHEN Xiao-ping,ZHAO Hui,WU Shi-kui.Preparation of In2O3 nanowires by single-source chemical vapor deposition method[J].Journal of Jiangsu University:Natural Science Edition,2007,28(3):216-219.
Authors:SHEN Xiao-ping  ZHAO Hui  WU Shi-kui
Abstract:
Keywords:nanowires  In2O3  chemical vapor deposition  preparation
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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