光学介质薄膜抗激光损伤特性的研究 |
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引用本文: | 李荣,徐均琪,苏俊宏,杭凌侠.光学介质薄膜抗激光损伤特性的研究[J].科技咨询导报,2010(10):112-114. |
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作者姓名: | 李荣 徐均琪 苏俊宏 杭凌侠 |
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作者单位: | 西安工业大学光电工程学院,西安,710032 |
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基金项目: | 国家科技部资助项目,陕西省科技厅资助项目 |
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摘 要: | 采用离子束辅助沉积的方式镀制了几种介质膜料的单层膜。利用1.064μm调Q Nd:YAG脉冲激光器,对它们的损伤特性进行了研究。观察并讨论了在不同激光能量下薄膜的损伤现象,同时利用TaylorHobson干涉仪检测了薄膜表面的粗糙度变化。研究表明,在不同的激光能量下,单层HfO2薄膜出现了不同的损伤形态,且表面粗糙度随着激光能量的增加有正相关的变化;在同一激光能量下,不同工艺条件制备的HfO2薄膜有不同程度的损伤,可以得到较好的制备工艺参数;三种不同的氟化物薄膜即氟化镁(MgF2)、氟化钡(BaF2)、氟化钇(YF3)在相同的激光能量下,也出现了不同的损伤形貌,得出了损伤阈值高的薄膜是氟化钇薄膜。
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关 键 词: | 光学介质薄膜 激光损伤 损伤形态 |
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