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不同晶面暴露的WO3纳米材料的制备及光催化性能
作者姓名:杜意恩  牛宪军  霍震  苗玉茹
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摘    要:以Na2WO4·2H2O为钨源,分别以乙酸、过氧化氢、氢氟酸和氟化铵为形貌控制剂,采用水热合成法制备了020/002晶面(HF?WO3)、110/002晶面(HAc?WO3、H2O2?WO3)、200/002/020晶面(NH4F?WO3)暴露的4种WO3纳米材料. 通过X射线粉末衍射(XRD)、场发射扫描电镜(FESEM)、透射电镜(TEM)、光致发光光谱(PL)、电化学阻抗谱(EIS)等对产物的晶体结构、形貌、光学性质及载流子的迁移和重组进行了表征. 研究了从Na2WO4到产物WO3的转变生成机理,并通过对硝基苯酚溶液在紫外线光照下的降解实验,对其光催化性能进行评价. 结果表明,200/002/020晶面共暴露的NH4F?WO3样品在光催化降解对硝基苯酚溶液中显示了最好的光催化性能.  

关 键 词:三氧化钨   暴露晶面   光催化剂   水热法   纳米材料  
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