|
|||||
|
|
| Ni80Fe20/Cu多层膜巨磁电阻与微结构的关系 | |
| 引用本文： | 姜宏伟.Ni80Fe20/Cu多层膜巨磁电阻与微结构的关系[J].科学通报,1998,43(14):1485-1488. |
| 作者姓名： | 姜宏伟 |
| 作者单位： | 中国科学院物理研究所磁学国家重点实验室!北京100080 |
| 基金项目： | 中国科学院KJ951 A1 4 0 1资助项目 |
| 摘 要： | 采用磁控溅射方法，在不同溅射气压下制备了取向的具有巨磁电阻效应的Ｎｉ８０Ｆｅ２０／Ｃｕ金属多层膜。室温下，饱和磁电阻值随着Ｃｕ层厚主的增加呈振荡变化，在Ｃｕ层厚度ｔＣｕ＝１．０，２．２ｎｍ时。 |
| 关 键 词： | 多层膜 巨磁电阻 同步辐射 微结构 铜 镍铁合金 |
| 收稿时间： | 1997-11-24 |
| 修稿时间： | 1998-02-01 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
| 点击此处可从《科学通报》浏览原始摘要信息 | |
| 点击此处可从《科学通报》下载免费的PDF全文 | |