首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

一种新的湿法钝化多孔硅的方法
引用本文:黄燕华,陈松岩,蔡贝妮.一种新的湿法钝化多孔硅的方法[J].厦门大学学报(自然科学版),2005,44(Z1):334-337.
作者姓名:黄燕华  陈松岩  蔡贝妮
作者单位:厦门大学物理学系,福建,厦门,361005
基金项目:国家自然基金项目(60336010)资助
摘    要:采用硫代乙酰胺的HF酸水溶液作为氧化剂对初始多孔硅进行钝化处理,改善了多孔硅表面结构并提高了发光强度.同时研究了钝化电流,钝化温度和钝化时间等一系列因素对钝化多孔硅光致发光强度的影响.实验发现,在60℃恒温下,对样品通电流1 mA/cm2,进行10 min的钝化处理可以获得最强的光致发光,发光强度比初始样品发光强度增强了一个数量级.另外,通过傅立叶红外吸收谱(FTIR)以及X射线光电子能谱(XPS)测试分析,探讨了钝化处理使得多孔硅发光强度提高的原因.

关 键 词:多孔硅(PS)  光致发光(PL)  钝化(PAS)  傅立叶变换红外吸收谱(FTIR)
文章编号:0438-0479(2005)Sup-0334-04
修稿时间:2005年1月27日

A New Method for Wet Passivating of Porous Silicon
HUANG Yan-hua,CHEN Song-yan,CAI Bei-ni.A New Method for Wet Passivating of Porous Silicon[J].Journal of Xiamen University(Natural Science),2005,44(Z1):334-337.
Authors:HUANG Yan-hua  CHEN Song-yan  CAI Bei-ni
Abstract:
Keywords:
本文献已被 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号