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掺Er的In1—xGaxP的光致发光性能
引用本文:张喜田,李德敏.掺Er的In1—xGaxP的光致发光性能[J].哈尔滨师范大学自然科学学报,1998,14(2):37-39.
作者姓名:张喜田  李德敏
摘    要:金属有机化学气相淀积用于制备掺Er的In1xGaxP外延层。低温下,研究了温度与光致发光性质的关系作为合金成分的函数,其中合金成分为x=0-0.98,发现所有掺Er的In1-xGaxP外延层都在0.801eV处有一上强光致发光峰,与合金成分无关,295K时观测到In0.52Ga0.48P样品的Er^3+离子的光致发光特征峰,发光强度明显降低。

关 键 词:  光致发光  化合物半导体  MOCVD  Ⅲ-Ⅴ族化合物
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