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过氧化聚吡咯-铁氰化钴/普鲁士蓝复合膜的制备及应用
作者姓名:宋诗稳  于浩  甄延忠  刘珍叶  齐广才
作者单位:延安大学能源与环境工程学院;延安大学化学与化工学院
基金项目:延安市科技攻关项目(2012kg-01)
摘    要:采用循环伏安法在Co2+、Fe3+、K3Fe(CN)6共存的溶液将CoHCF/PB复合膜修饰于过氧化聚吡咯修饰的复合陶瓷碳电极表面(PPyox-CoHCF/PB/CCE)。采用扫描电镜(SEM)方法对修饰电极进行表征,并研究了修饰电极对H2O2的电催化活性。结果表明:PPyox膜的存在更易于Co-HCF/PB在其上的固载、改善了电极表面金属铁氰化物的分散性与修饰电极的电催化活性。在优化的实验条件下,安培法检测H2O2的线性范围为6.0×10-6~4.0×10-3mol.L-1,检出限为3.0×10-6mol.L-1(3 Sb,n=10)。

关 键 词:铁氰化钴  普鲁士蓝  过氧化聚吡咯  膜修饰电极  电沉积
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