| 多弧离子镀沉积TiAlN/TiN多层膜的结构与性能 |
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| 引用本文： | 黄美东,李云珂,王萌萌,王宇,陈广宵.多弧离子镀沉积TiAlN/TiN多层膜的结构与性能[J].天津师范大学学报(自然科学版),2015,35(1):26-29. |
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| 作者姓名： | 黄美东 李云珂 王萌萌 王宇 陈广宵 |
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| 作者单位： | 天津师范大学物理与材料科学学院,天津,300387 |
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| 基金项目： | 天津师范大学创新计划资助项目 |
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| 摘 要： | 为研究调制周期对薄膜结构和性能的影响,采用多弧离子镀技术在高速钢上制备TiAlN/TiN多层膜,通过改变调制周期制备了不同层数的TiAlN/TiN多层膜,使用扫描电子显微镜(SEM)、XP-2台阶仪、X线衍射仪(XRD)和维氏硬度计对薄膜的表面形貌、厚度、物相结构和硬度进行测量,并对实验结果进行分析和讨论.结果表明:TiAlN/TiN多层薄膜中膜层的择优生长方向主要表现为Ti Al N相的(0010)取向;调制周期的改变对薄膜的沉积速率基本没有影响;随着调制周期的减小,样品的表面质量提高,显微硬度明显变大.
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| 关 键 词： | 多弧离子镀 TiAlN/TiN多层膜 薄膜结构 力学性能 |
Structure and properties of TiAlN/TiN multilayers by arc ion plating |
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| HUANG Meidong,LI Yunke,WANG Mengmeng,WANG Yu,CHEN Guangxiao.Structure and properties of TiAlN/TiN multilayers by arc ion plating[J].Journal of Tianjin Normal University(Natural Science Edition),2015,35(1):26-29. |
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| Authors: | HUANG Meidong LI Yunke WANG Mengmeng WANG Yu CHEN Guangxiao |
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| Institution: | HUANG Meidong;LI Yunke;WANG Mengmeng;WANG Yu;CHEN Guangxiao;College of Physics and Materials Science,Tianjin Normal University; |
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