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正方平面铑(Ⅰ)络合物的分子内羰基全取代反应
引用本文:彭文庆,袁国卿.正方平面铑(Ⅰ)络合物的分子内羰基全取代反应[J].科学通报,1997,42(9):935-938.
作者姓名:彭文庆  袁国卿
作者单位:中国科学院化学研究所!北京100080
摘    要:铑的顺二羰基正方平面N-配体二齿络合物是一种典型的羰基合成催化剂,然而这类催化剂通常是不稳定的.以甲醇羰基化反应的正方平面催化剂为例,在反应过程中即使瞬间脱离一氧化碳的保护,其铑的末端羰基即会脱落,使铑处于配位不饱和状态而分解,从而失去催化活性.在我们的前期工作中发现,正方平面顺二羰基铑(三齿N-配体)螯合型阳离子化合物,在一定条件下,空余的未配位N原子可取代其中一个铑的末端而与铑形成配位,从而使该络合物的稳定性得以提高.本文发现,四齿N-配体的顺二碳基铑阳离子络合物,在固态下其结合能力较弱的N→Rh配位键可取代结合能力较强的Rh-Cπ反馈键,即两个未配位的N原子逐步取代两个铑的末端羰基,从而形成三齿N和四齿N络合物.TG研究表明络合物的分

关 键 词:正方平面  分子内取代  铑络合物  羟基  取代反应
收稿时间:1996-05-09
修稿时间:1996-10-15
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