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半导体制造过程的多工序协同控制模型
引用本文:刘国良,何博侠,张志胜,史金飞.半导体制造过程的多工序协同控制模型[J].东南大学学报(自然科学版),2010,40(1).
作者姓名:刘国良  何博侠  张志胜  史金飞
作者单位:东南大学机械工程学院,南京,211189
基金项目:国家自然科学基金资助项目(50805023);;国家重点实验室开放基金资助项目(MSV200908);;江苏省青蓝工程资助项目(2008-30-1)
摘    要:针对半导体制造过程的多工序质量控制,提出一种协同控制模型.该模型由目标优化、设备选择和设备控制3层组成.目标优化层利用目标优化模型对下游关键工序参数的目标值进行优化,补偿上游工序偏差对产品质量特征的影响;设备选择层综合考虑设备性能、生产时间以及设备的可利用性,选择处于最佳状态的设备完成相应的工序操作;设备控制层对选定的设备进行Run-to-Run控制,降低产品批次间的差异.从某半导体制造车间采集多道关键工序的测试数据,建立协同控制模型.通过基于生产数据的仿真,证实协同控制模型能够改善产品质量,提高设备效能和生产效率.

关 键 词:半导体制造  协同控制  目标优化  质量控制  

Multi-process cooperative control model for semiconductor manufacturing processes
Liu Guoliang,He Boxia,Zhang Zhisheng,Shi Jinfei.Multi-process cooperative control model for semiconductor manufacturing processes[J].Journal of Southeast University(Natural Science Edition),2010,40(1).
Authors:Liu Guoliang  He Boxia  Zhang Zhisheng  Shi Jinfei
Institution:School of Mechanical Engineering;Southeast University;Nanjing 211189;China
Abstract:A multi-process cooperative control model is proposed to deal with the problem of quality control for semiconductor manufacturing processes.The model consists of three tiers:target optimization,tool selection and tool control.In the target optimization tie,the target values of downstream key process parameters are optimized to compensate the effect of the deviation of upstream processes on product quality characteristics.In the tool selection tie,a best tool is selected based on tool performance,throughput ...
Keywords:semiconductor manufacturing  cooperative control  target optimization  quality control  
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