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| 低雷诺数模型模拟UV反应器湍流流场 | |
| 引用本文： | 陈杰勇,邓保庆,李茹.低雷诺数模型模拟UV反应器湍流流场[J].曲阜师范大学学报,2009,35(3):53-56. |
| 作者姓名： | 陈杰勇 邓保庆 李茹 |
| 作者单位： | 上海理工大学城市建设与环境工程学院,200093,上海市 |
| 摘 要： | 依据低雷诺数k-ε模型,用CFD商业软件FLUENT,对UV消毒反应器进行数值模拟.UV消毒反应器结构的设计可以在很大程度上影响到饮用水的消毒水平,并且影响到了反应器的运行维护费用,因此优化反应器的结构设计十分重要.结果表明,运用低雷诺数k-ε模型模拟UV流场得到的结果能很好地符合实验得到的结果.因此,低雷诺数k-ε模型可以作为分析UV消毒反应器内的流场分布的可靠模型,该模型可以应用于分析不同结构的UV消毒反应器内的流动情况,帮助改善反应器的结构设计以达到改进消毒效果的目的. |
| 关 键 词： | 紫外光消毒反应器 数值模拟 湍流 低雷诺数k-ε模型 |
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