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| 非晶Fe_(78)B_(13)Si_9/Si调制膜的CEMS研究 | |
| 作者姓名： | 毕耜云 |
| 作者单位： | 山东大学物理系 济南(毕耜云，李卫东)，山东大学物理系 济南(梅良模) |
| 摘 要： | 我们用溅射技术制得了非晶Fe_(78)B_(13)Si_9/Si调制膜,并用转换电子的Mssbauer谱技术(CEMS)研究了它们的微观结构。实验结果表明,Fe原子和Si原子在界面处的互扩散所形成的过渡层的特性是决定这种调制膜性能的主要因素。 |
| 关 键 词： | 调制膜 转换电子的Mssbauer谱 原子扩散 过渡层 |
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