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| 超高压烧结Si3N4陶瓷X射线衍射分析 | |
| 作者姓名： | 温静娴 王宝棣 陈国(王禽) 黄衍信 罗平 |
| 作者单位： | 广西大学工业测试实验中心,南宁,530004;广西大学计算机与信息工程学院,南宁,530004;广西分析测试中心,南宁,530002 |
| 摘 要： | 对采用超高压烧结工艺,在不同烧结温度（保温时间均为２４０ｓ）下制作的Ｓｉ３Ｎ４陶瓷,用Ｘ射线衍射仪对其相结构变化进行了分析研究,发现超高压烧结的Ｓｉ３Ｎ４陶瓷可以在较低温度下瞬间完成从α相向β相的转变过程． |
| 关 键 词： | 超高压烧结 Si3N4陶瓷 韧性 |
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