合成射流改善S形进气道流场特性的研究 |
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引用本文: | 陈占军,王晋军.合成射流改善S形进气道流场特性的研究[J].中国科学:信息科学,2012(9):1054-1060. |
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作者姓名: | 陈占军 王晋军 |
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作者单位: | 北京航空航天大学流体力学研究所,流体力学教育部重点实验室,北京100191 |
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基金项目: | 国家自然科学基金(批准号:50976007)资助项目 |
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摘 要: | S形进气道存在严重的流动分离及二次流现象,导致进气道出口总压恢复系数低、流场畸变严重.由于二次流的存在,进气道内流场三维性较强,常规的在展向或周向施加等量的控制针对性并不强,本文在矩形进气道模型上游弯道流动分离处不同展向位置施加等强度的合成射流控制,研究不同展向位置对控制效果的影响.首先对进气道内流动分离和二次流的相互作用进行了分析,发现在进气道展向不同位置二次流可能会抑制或加强流动分离,流动分离也会使二次涡加强,导致出口局部区域压力恢复非常低.在展向不同位置施加控制,可通过改善展向不同区域流动分离来产生不同旋转方向的流向旋流和二次流相互作用,降低二次流的强度,获得较高的总压恢复.
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关 键 词: | S形进气道 合成射流 流动控制 总压恢复 旋流 |
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