对集成电路布图设计立法保护模式的分析与思考

本文从集成电路立法保护的核心，布图设计立法保护的“交叉”模式以及此模式对计算机软件保护的启发意义三个方面进行了论述，并得出结论：布图设计立法保护的“交叉”保护模式适应并促进了集成电路工业的发展，同样具有“交叉”性特点的计算机软件也应当按照这种“交叉”保护模式单独创建一部单行法规。