| 硅基SiC薄膜的制备及性能研究 |
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| 引用本文： | 胡冰冰,何晓雄,许世峰,孙飞翔. 硅基SiC薄膜的制备及性能研究[J]. 合肥工业大学学报(自然科学版), 2015, 0(3): 351-353,392 |
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| 作者姓名： | 胡冰冰 何晓雄 许世峰 孙飞翔 |
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| 作者单位： | 合肥工业大学电子科学与应用物理学院,安徽合肥,230009 |
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| 基金项目： | 安徽省自然科学基金资助项目 |
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| 摘 要： | 文章采用电子束物理气相沉积法在单晶Si(100)基片上制备了单层SiC薄膜和Al2O3/SiC双层膜,然后在不同温度下经氩气保护退火。通过X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)对所制备的薄膜进行了结构和表面形貌分析。研究表明:退火后SiC薄膜由非晶态转为晶态,随退火温度的升高,薄膜结晶更充分,薄膜表面平均粗糙度变小;双层膜与单层膜相比,其SiC衍射峰有所增强,薄膜表面更加平滑。
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| 关 键 词： | SiC薄膜 电子束物理气相沉积 表面形貌 X射线衍射 |
Preparation and properties of SiC thin film on silicon substrate |
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| HU Bing-bing,HE Xiao-xiong,XU Shi-feng,SUN Fei-xiang. Preparation and properties of SiC thin film on silicon substrate[J]. Journal of Hefei University of Technology(Natural Science), 2015, 0(3): 351-353,392 |
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| Authors: | HU Bing-bing HE Xiao-xiong XU Shi-feng SUN Fei-xiang |
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| Affiliation: | HU Bing-bing;HE Xiao-xiong;XU Shi-feng;SUN Fei-xiang;School of Electronic Science and Applied Physics,Hefei University of Technology; |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | SiC thin film electron beam-physical vapor deposition(EB-PVD) surface morphology X-ray diffraction(XRD) |
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