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TiO2/VO2双层薄膜的制备及光电性能研究
引用本文:吕晓庆,李合琴,周矗,崔跃,何蓓,刘涛.TiO2/VO2双层薄膜的制备及光电性能研究[J].合肥工业大学学报(自然科学版),2012,35(12).
作者姓名:吕晓庆  李合琴  周矗  崔跃  何蓓  刘涛
作者单位:合肥工业大学材料科学与工程学院,安徽合肥,230009
基金项目:国家973计划资助项目,安徽省自然科学基金资助项目,安徽省高校自然科学基金资助项目,合肥工业大学国家级大学生创新性实验计划资助项目
摘    要:文章采用磁控溅射法在玻璃基底上分别制备VO2单层薄膜与TiO2/VO2双层薄膜,并在Ar气中进行退火.用X射线衍射仪、扫描电镜、紫外-可见光分光光度计、LCR测试仪对薄膜样品的晶体结构、表面形貌、可见光透过率、电阻温度特性进行测试.结果表明,TiO2/VO2双层薄膜的相变温度降低到56℃,电阻温度系数为-1.087/℃,可见光透过率提高了20%~30%,且薄膜生长致密均匀.

关 键 词:TiO2/VO2双层薄膜  相变温度  电阻温度曲线  可见光透过率

Preparation of TiO2/VO2 bilayer thin film and its photoelectric properties
L Xiao-qing,LI He-qin,ZHOU Chu,CUI Yue,HE Bei,LIU Tao.Preparation of TiO2/VO2 bilayer thin film and its photoelectric properties[J].Journal of Hefei University of Technology(Natural Science),2012,35(12).
Authors:L Xiao-qing  LI He-qin  ZHOU Chu  CUI Yue  HE Bei  LIU Tao
Institution:L(U) Xiao-qing,LI He-qin,ZHOU Chu,CUI Yue,HE Bei,LIU Tao
Abstract:
Keywords:
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