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原子内壳层电离截面研究中薄靶厚度的卢瑟福背散射分析
引用本文:段艳敏,吴英,唐昶环,刘东剑,丁庆平,刘慢天,安竹.原子内壳层电离截面研究中薄靶厚度的卢瑟福背散射分析[J].四川大学学报(自然科学版),2004,41(6):1221-1224.
作者姓名:段艳敏  吴英  唐昶环  刘东剑  丁庆平  刘慢天  安竹
作者单位:1. 四川大学原子核科学技术研究所·辐射物理及技术教育部重点实验室,成都,610064
2. 中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川绵阳,621900
3. 电子科技大学,成都,610000
基金项目:国家自然科学基金委员会与中国工程物理研究院联合基金(10276029),高等学校博士学科点专项科研基金(20020610019)
摘    要:作者使用^241Amα标准源与卢瑟福背散射相结合的方法,对四川大学原子核科学技术研究所的2.5MeV静电加速器进行了能量刻度,并利用卢瑟福背散射方法测量了一系列A1衬底金属薄靶的厚度,所测结果与称重法进行了比较,作者将卢瑟福背散射方法所测厚度值运用到电子碰撞引起原子内壳层电离截面的测量工作中,取得了满意的结果。

关 键 词:卢瑟福背散射(RBS)  能量刻度  电子碰撞  原子内壳层电离截面
文章编号:0490-6756(2004)06-1221-04

Thickness Determination of Thin-fim Samples Used in Atomic Innner-Shell Ionization M easurement by Rutherford Backscattering Spectrometry
DUAN Yan-min,WU Ying,TANG Chang-huan,LIU Dong-jian,DING Qing-ping,LIU Man-tian,AN Zhu.Thickness Determination of Thin-fim Samples Used in Atomic Innner-Shell Ionization M easurement by Rutherford Backscattering Spectrometry[J].Journal of Sichuan University (Natural Science Edition),2004,41(6):1221-1224.
Authors:DUAN Yan-min  WU Ying  TANG Chang-huan  LIU Dong-jian  DING Qing-ping  LIU Man-tian  AN Zhu
Institution:DUAN Yan-min~1,WU Ying~1,TANG Chang-huan~2,LIU Dong-jian~1,DING Qing-ping~3,LIU Man-tian~1,AN Zhu~1
Abstract:
Keywords:Rutherford backscattering spectrometry (RBS)  energy calibration  electron impact  inner-shell ionization of atoms
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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