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| 4-(6-胺基己氧基)-4′-氰基联苯蒙脱土插层材料的制备与表征 | |
| 引用本文： | 董前年,章于川,张彩云,沈金平.4-(6-胺基己氧基)-4′-氰基联苯蒙脱土插层材料的制备与表征[J].应用科技,2006(7). |
| 作者姓名： | 董前年 章于川 张彩云 沈金平 |
| 作者单位： | 安徽大学化学化工学院 安徽合肥230039(董前年，章于川，沈金平)，安徽中医学院药学院 安徽合肥230038(张彩云) |
| 基金项目： | 安徽省“十五”攻关项目基金资助(200183) |
| 摘 要： | 为了制备液晶/蒙脱土纳米复合材料,以4-(6-胺基己氧基)-4′-氰基联苯(Ⅰ)作为插层剂对蒙脱土进行有机化处理.FT-IR、XRD、TGA和TEM测试表明,有机插层剂已进入蒙脱土的层间,层间距由1.24 nm增加到2.47 nm,且改变了层间微环境,有力地增强了液晶分子和蒙脱土的相容性. |
| 关 键 词： | 插层剂 4-(6-胺基己氧基)-4′-氰基联苯 有机蒙脱土 液晶 |
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