SiO_2/SiO界面能级位移光电发射的研究 |
| |
引用本文: | 陈立春,刘先明,邓振波,徐叙.SiO_2/SiO界面能级位移光电发射的研究[J].天津理工大学学报,1994(2). |
| |
作者姓名: | 陈立春 刘先明 邓振波 徐叙 |
| |
作者单位: | 天津理工学院材料物理所,中国科技大学表面分析开放实验室 |
| |
基金项目: | 中国国家自然科学基金,二十一世纪天津青年基金 |
| |
摘 要: | 芯层光电子能谱(XPS)和价带光电子能谱(UPS)是研究不同半导体之间界面价带落差的有效手段,由SiO2/SiO界面处的芯层和价带光电子能谱,我们确定SiO2/SiO界面能级落差为2.0eV,覆盖引起能带位移为0.9eV,同时发现SiO和SiO2中的化学组分是较复杂的。
|
关 键 词: | 光电子能谱,界面,能带位移 |
本文献已被 CNKI 等数据库收录! |
|