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SiO_2/SiO界面能级位移光电发射的研究
引用本文:陈立春,刘先明,邓振波,徐叙.SiO_2/SiO界面能级位移光电发射的研究[J].天津理工大学学报,1994(2).
作者姓名:陈立春  刘先明  邓振波  徐叙
作者单位:天津理工学院材料物理所,中国科技大学表面分析开放实验室
基金项目:中国国家自然科学基金,二十一世纪天津青年基金
摘    要:芯层光电子能谱(XPS)和价带光电子能谱(UPS)是研究不同半导体之间界面价带落差的有效手段,由SiO2/SiO界面处的芯层和价带光电子能谱,我们确定SiO2/SiO界面能级落差为2.0eV,覆盖引起能带位移为0.9eV,同时发现SiO和SiO2中的化学组分是较复杂的。

关 键 词:光电子能谱,界面,能带位移
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