| 氮化硅薄膜的快速热处理在太阳电池中的应用 |
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| 引用本文： | 李友杰,罗培青,黄建华,王景霄,周之斌,崔容强. 氮化硅薄膜的快速热处理在太阳电池中的应用[J]. 上海交通大学学报, 2008, 42(1): 152-155 |
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| 作者姓名： | 李友杰 罗培青 黄建华 王景霄 周之斌 崔容强 |
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| 作者单位： | 1. 上海交通大学,太阳能研究所,上海,200240
2. 上海交通大学,林洋研发中心,上海,200240 |
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| 摘 要： | 研究了低温等离子体增强化学气相沉积(PECVD)氮化硅(SiNx)薄膜的快速热处理,发现一种能使硅片少子寿命(τ)显著提高的快速热退火工艺并对其机理和应用方法进行初步讨论.硅片在700℃、1 s的快速热处理下,τ提高200%左右,用PC1D--太阳电池模拟软件知其可带来0.54%的效率提高.同样的实验在已经扩磷的硅片上进行,少子寿命亦只提高55%.把上述研究和最新的激光烧穿接触工艺用于太阳电池,可使太阳电池效率有一定提高.
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| 关 键 词： | 氮化硅薄膜 快速热处理 激光烧穿接触 太阳电池 氮化硅 硅薄膜 快速热处理 太阳电池效率 应用 Solar Cell Thin Film SiNx Thermal Process Rapid 艺用 接触 烧穿 激光 实验 效率提高 模拟软件 方法 机理 退火工艺 |
| 文章编号： | 1006-2467（2008）01-0152-04 |
| 收稿时间： | 2007-01-04 |
| 修稿时间： | 2007-01-04 |
Study of Rapid Thermal Process on the SiNx Thin Film Applied in Solar Cell |
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| LI You-jie,LUO Pei-qing,HUANG Jian-hua,WANG Jing-xiao,ZHOU Zi-bin,CUI Rong-qiang. Study of Rapid Thermal Process on the SiNx Thin Film Applied in Solar Cell[J]. Journal of Shanghai Jiaotong University, 2008, 42(1): 152-155 |
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| Authors: | LI You-jie LUO Pei-qing HUANG Jian-hua WANG Jing-xiao ZHOU Zi-bin CUI Rong-qiang |
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