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高岭石/N-甲基甲酰胺插层复合物的制备
引用本文:田春良.高岭石/N-甲基甲酰胺插层复合物的制备[J].信阳师范学院学报(自然科学版),2008,21(1):115-117.
作者姓名:田春良
作者单位:济宁学院,化学系,山东,济宁,273155
摘    要:室温下,通过磁力搅拌制备高岭石/N-甲基甲酰胺(NMF)插层复合物.用XRD、FT-IR、TG-DSC分析插层前后特征基团和结构的变化.结果表明:NMF有机分子进入高岭石层间,在连续搅拌24 h后插层率为92%,层间距由0.71 nm膨胀为1.07 nm,随着反应时间的延长,插层率下降,但是其结构的有序度提高;插层后3 696 cm-1、3 668 cm-1、3 651 cm-1处峰强度变弱,3 619 cm-1基本不变,在1 638 cm-1和3 553 cm-1处出现新的吸收峰;TG-DSC分析表明在145℃左右有机分子分解,512℃左右失去结构水,1 000℃左右出现相转变.

关 键 词:N-甲基甲酰胺  高岭石  插层复合物  高岭石  甲基甲酰胺  插层复合物  Kaolinite  Preparation  相转变  结构水  分子分解  分析表  吸收峰  峰强度  有序度  延长  反应时间  间距  插层率  连续  有机分子  结果  变化
文章编号:1003-0972(2008)01-0115-03
收稿时间:2007-10-15
修稿时间:2007-11-20

Preparation of Kaolinite/NMF Interclation Compound
TIAN Chun-liang.Preparation of Kaolinite/NMF Interclation Compound[J].Journal of Xinyang Teachers College(Natural Science Edition),2008,21(1):115-117.
Authors:TIAN Chun-liang
Abstract:
Keywords:N-methylformamide  kaolinite  intercalation compound
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