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磁性薄膜自发磁化强度的变分累计展开分析
引用本文:周亚非.磁性薄膜自发磁化强度的变分累计展开分析[J].重庆文理学院学报(自然科学版),2004,3(4):18-20.
作者姓名:周亚非
作者单位:渝西学院,物理学与电子信息工程系,重庆,永川,402168
基金项目:重庆市教委科学技术研究项目(批准号:031202)资助.
摘    要:利用变分累计展开方法,分析了Heisenberg磁性薄膜的自发磁化强度到三级累积展开.结果表明自发磁化强度依赖于薄膜的层数.在某一临界厚度以下,自发磁化强度随薄膜原子层数的减小而迅速减小,其结果与实验数据接近.

关 键 词:Heisenberg薄膜  自发磁化强度  变分累计展开
文章编号:1671-7538(2004)04-0018-03
修稿时间:2004年7月7日

Analytical Study of Spontaneous Magnetization with Variational Cumulant Expansion in Magnetic Thin Film
ZHOU Ya-fei.Analytical Study of Spontaneous Magnetization with Variational Cumulant Expansion in Magnetic Thin Film[J].Journal of Chongqing University of Arts and Sciences,2004,3(4):18-20.
Authors:ZHOU Ya-fei
Abstract:
Keywords:
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