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半导体材料晶片加工应力控制研究
引用本文:秦学敏,吕菲,马玉通,靳彩明.半导体材料晶片加工应力控制研究[J].天津科技,2009,36(1):76-78.
作者姓名:秦学敏  吕菲  马玉通  靳彩明
作者单位:中国电子科技集团公司第四十六所,天津,300220
摘    要:晶片在加工过程中要经过滚磨、切割、倒角等工序才能实现由单晶锭到单晶片的过程,并保持一定的直径和获得参考面。这一系列的机械加工过程中会对单晶造成不同程度的损伤,改变单晶内部应力。通过对单晶滚磨、切割、倒角等加工过程的研究,定性分析了单晶应力产生的原因,通过调整关键工艺参数,使晶片应力得到有效的控制。

关 键 词:半导体材料  晶体  缺陷密度  应力
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