| 热处理对静电自组装SiO2光学薄膜的影响 |
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| 引用本文： | 许丕池,卢忠远,何方方,王兵. 热处理对静电自组装SiO2光学薄膜的影响[J]. 四川大学学报(自然科学版), 2005, 42(1): 133-138 |
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| 作者姓名： | 许丕池 卢忠远 何方方 王兵 |
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| 作者单位： | 西南科技大学材料学院,四川,绵阳,621010;西南科技大学材料学院,四川,绵阳,621010;西南科技大学材料学院,四川,绵阳,621010;西南科技大学材料学院,四川,绵阳,621010 |
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| 基金项目： | 国防基础科学研究项目(K12030611091);西南科技大学引进人才科研启动基金项目(ZK043073);湖北省自然科学基金资助项目(2000J002) |
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| 摘 要： | ![]()
以正硅酸乙酯(Ethyl silicate,TEOS)为原料,乙醇为溶剂,NH3·H2O为催化剂,乙醇水溶液为稀释剂制备了胶粒带负电荷、浓度为0.01g/mL的SiO2溶胶.在低折射率(1.45)的玻璃基片上用静电自组装(Electrostatic Self-Assembly Multilayer,ESAM)法制备了带正电荷的聚电解质聚二烯丙基二甲基氯化铵PDDA与SiO2的有机/无机复合薄膜.然后在不同温度下对其进行热处理.分别用A型缩合热分析仪(TG-DTA)、透射电镜(TEM)、傅立叶红外光谱仪(FT-IR)、椭偏仪(TP-77型椭圆偏振光测厚仪)、721分光光度计、NdYAG激光器研究了温度对薄膜结构、组成、折射率、光学性能、机械强度以及激光损伤阈值的影响.得到了多孔、折射率低(1.27)、抗机械损伤强度大、激光损伤阈值高(68J/cm2)、透光性好(99.2%)的SiO2光学增透薄膜.
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| 关 键 词： | SiO2 静电自组装 热处理 增透膜 |
| 文章编号： | 0490-6756(2005)01-0133-06 |
Effect of Heat-treatment on SiO2 Optical Thin Film Prepared with Electrostatic Self-Assembly Multilayer Method |
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| XU Pi-chi,LU Zhong-yuan,HE Fang-fang,WANG Bing. Effect of Heat-treatment on SiO2 Optical Thin Film Prepared with Electrostatic Self-Assembly Multilayer Method[J]. Journal of Sichuan University (Natural Science Edition), 2005, 42(1): 133-138 |
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| Authors: | XU Pi-chi LU Zhong-yuan HE Fang-fang WANG Bing |
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| Abstract: | ![]()
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| Keywords: | SiO_(2 ) electrostatic self-assembly multi-layer heat treatment anti-reflective |
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