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Effects of deposition parameters on the properties of VO2 thin films
Authors:WANG Lixi  LI Jianping  GAO Xiaoguang  HE Xiuli
Affiliation:State Key Laboratory of Transducer Technology, Institute of Electronics, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100080, China
Abstract:
Keywords:vanadium dioxide   temperature coefficients of resistivity   oxygen partial pressure   RF reactive sputtering
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