| 同步辐射辐照下Mo/Si,Pd/Si多层膜的稳定性 |
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| 引用本文： | 伍历文.同步辐射辐照下Mo/Si,Pd/Si多层膜的稳定性[J].科学通报,1995,40(8):761-761. |
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| 作者姓名： | 伍历文 |
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| 作者单位： | 中国科学技术大学基础物理中心，中国科学技术大学基础物理中心，中国科学技术大学基础物理中心，中国科学技术大学结构分析开放实验室，河海大学数理系，中国科学技术大学国家同步辐射实验室，中国科学技术大学国家同步辐射实验室 合肥230026，合肥230026，合肥230026 中国科学技术大学结构分析开放实验室，合肥230026，合肥230026，南京210023，合肥230026，合肥230026 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金，合肥国家同步辐射实验室资助课题 |
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| 摘 要： | 随着众多同步辐射装置的建成和完善,软X射线光学得到迅速发展.由于同步辐射能量密度较高,可能使光束线上的插入元件温升很高.因为辐照对化学反应有促进作用,故此在同步辐射辐照下,作为反射、色散元件的人工周期性多层膜的稳定性是一个值得研究的问
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| 关 键 词： | 多层膜 同步辐射 辐照 稳定性 硅 钼 |
| 收稿时间： | 1994-05-25 |
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