| 高精度光栅刻划中的综合误差修正技术 |
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| 引用本文： | 陈骥,杨世雄.高精度光栅刻划中的综合误差修正技术[J].重庆大学学报(自然科学版),1994,17(3):7-12. |
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| 作者姓名： | 陈骥 杨世雄 |
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| 作者单位： | 重庆大学光电精密仪器系 |
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| 摘 要： | 在用线性系统和随机过程理论分析光刻机误差传递特性的基础上，采用时间序列分析法建立误差的数学模型，提出了综合误差修正的新方法，介绍了微机综合误差实时修正系统的电路结构与工作原理。其主要特点是，不仅能修正系统误差，而且能够根据对随机误差的预报来修正相关的动态误差。实验结果表明，系统修正精度达到±０．１μｍ。
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| 关 键 词： | 光栅 刻划 综合误差 修正 |
Composition Errors Correction Iechnioue for Manufacture of High Acceracy Grating |
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| Chen Ji,Yang Shixiong,Gu Qingxiang,Yu Hong.Composition Errors Correction Iechnioue for Manufacture of High Acceracy Grating[J].Journal of Chongqing University(Natural Science Edition),1994,17(3):7-12. |
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| Authors: | Chen Ji Yang Shixiong Gu Qingxiang Yu Hong |
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| Institution: | Chen Ji;Yang Shixiong;Gu Qingxiang;Yu Hong |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | grating engrave composition error correction |
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