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| 双离子注入增强退火效应的研究 | |
| 作者姓名： | 朱锦良 程东方 |
| 作者单位： | 上海科学技术大学(朱锦良，程东方，王良)，上海科学技术大学(蔡仁康) |
| 摘 要： | 本文介绍氩、硼离子注入的增强退火效应.四探针测试显示在500℃左右有低的薄层电阻R值,SEM观察和拉曼谱观察表明,注入区的晶格损伤得到了很好的恢复. |
| 关 键 词： | 双离子注入 增强退火效应 氩 硼 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
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