首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

新型结构的高性能CMOS带隙基准电压源
引用本文:胡洪平,冯勇建.新型结构的高性能CMOS带隙基准电压源[J].厦门大学学报(自然科学版),2006,45(6):789-791.
作者姓名:胡洪平  冯勇建
作者单位:厦门大学机电工程系,福建,厦门,361005
摘    要:运用带隙基准的原理,采用0.5 μm的CMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor)工艺,设计了一个新型结构的高性能CMOS带隙基准电压源.HSPICE仿真结果表明:电源电压VDD最低可达1.9 V,在温度-30~125℃范围内,电源电压VDD在1.9~5.5 V的条件下,输出基准电压VREF=(1.225±0.001 5) V,温度系数为γTC=14.75×10-6/℃,直流电源电压抑制比(PSRR)等于50 dB.在温度为25℃且电源电压为3 V的情况下功耗不到15 μW.整个带隙基准电压源具有良好的性能.

关 键 词:带隙  基准电压源  启动电路
文章编号:0438-0479(2006)06-0789-03
收稿时间:02 20 2006 12:00AM
修稿时间:2006年2月20日

A New-style Frame Super Performance CMOS Band-Gap Voltage Reference
HU Hong-ping,FONG Yong-jian.A New-style Frame Super Performance CMOS Band-Gap Voltage Reference[J].Journal of Xiamen University(Natural Science),2006,45(6):789-791.
Authors:HU Hong-ping  FONG Yong-jian
Abstract:
Keywords:CMOS
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号