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离子印迹技术制备过渡金属离子—聚邻苯二胺/TiO2/粉煤灰空心微珠及其对抗生素的光降解性能
引用本文:闫永胜,高旬,霍鹏伟,刘小林,吴迪,逯子扬,郭文录.离子印迹技术制备过渡金属离子—聚邻苯二胺/TiO2/粉煤灰空心微珠及其对抗生素的光降解性能[J].吉林师范大学学报(自然科学版),2012(4):6-11.
作者姓名:闫永胜  高旬  霍鹏伟  刘小林  吴迪  逯子扬  郭文录
作者单位:江苏大学化学化工学院;江苏科技大学生物与化学工程学院
基金项目:国家自然基金项目(21207053);教育部博士点专项基金(20113227110019);中国博士后基金项目(2012M511219)
摘    要:通过离子印迹技术,利用聚邻苯二胺将过渡金属离子固定在TiO2/粉煤灰空心微珠上.通过扫描电子显微镜(SEM)、能量色散谱(EDS)、X射线衍射(XRD)、傅里叶变换红外(FT-IR)以及紫外—可见漫反射光谱(UV-Vis DRS)对制备好的离子印迹光催化剂进行表征.研究了离子印迹光催化剂在可见光下降解四环素、土霉素、环丙沙星、盐酸四环素及氯霉素的光催化活性.结果表明,过渡金属离子印迹光催化剂可以在循环系统中有效地提高光电子和空穴的分离率,并且提高了降解抗生素废水光催化活性.四环素的降解率相对更高,C1对5 mg L-1的四环素废水的降解率可达72.6%.根据实验结果提出了制备过程以及光降解过程的机理.

关 键 词:过渡金属离子  导电聚合物  离子印迹技术  TiO2/漂珠  抗生素

Photocatalytic Degradation of Antibiotics Using Transition Metal Ions-Poly-ophenylenediamine/TiO2/Fly-ash Cenospheres by Ions Imprinting Technology
YAN Yong-sheng,GAO Xun,HUO Peng-wei,LIU Xiao-lin,WU Di,LU Zi-yang,GUO Wen-lu.Photocatalytic Degradation of Antibiotics Using Transition Metal Ions-Poly-ophenylenediamine/TiO2/Fly-ash Cenospheres by Ions Imprinting Technology[J].Jilin Normal University Journal(Natural Science Edition),2012(4):6-11.
Authors:YAN Yong-sheng  GAO Xun  HUO Peng-wei  LIU Xiao-lin  WU Di  LU Zi-yang  GUO Wen-lu
Institution:1.School of Chemistry and Chemical Engineering,Jiangsu University,Zhenjiang 212003,China; 2.School of Biology and Chemical Engineering,Jiangsu University of Science and Technology,Zhenjiang 212013,China)
Abstract:
Keywords:
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