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用化学刻蚀技术研究热致性液晶聚合物的微结构(英文)
作者姓名:董炎明
作者单位:湘潭大学化学系
摘    要:浓硫酸被发展用于刻蚀主链热致性液晶共聚芳酯B-N的条带织构,它对该液晶聚合物的向列织构有良好的选择性。用SEM和TEM揭示了微纤形态。特别是非平面构象、B-ET用高锰酸钾刻蚀也观察到微纤的条带织构。对微纤转弯处的优先刻蚀现象用PET富集解释。

关 键 词:化学刻蚀  电子显微术  共聚芳酯  条带织构  微纤
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