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| 用化学刻蚀技术研究热致性液晶聚合物的微结构(英文) | |
| 作者姓名： | 董炎明 |
| 作者单位： | 湘潭大学化学系 |
| 摘 要： | 浓硫酸被发展用于刻蚀主链热致性液晶共聚芳酯B-N的条带织构,它对该液晶聚合物的向列织构有良好的选择性。用SEM和TEM揭示了微纤形态。特别是非平面构象、B-ET用高锰酸钾刻蚀也观察到微纤的条带织构。对微纤转弯处的优先刻蚀现象用PET富集解释。 |
| 关 键 词： | 化学刻蚀 电子显微术 共聚芳酯 条带织构 微纤 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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