| 铝衬底微等离子体阵列的制作与光电特性测量 |
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| 引用本文： | 孟令国,梁志虎,刘纯亮,梁海锋,张小芸.铝衬底微等离子体阵列的制作与光电特性测量[J].西安交通大学学报,2008,42(8). |
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| 作者姓名： | 孟令国 梁志虎 刘纯亮 梁海锋 张小芸 |
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| 作者单位： | 西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室,710049,西安 |
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| 摘 要： | 在铝衬底上采用光刻工艺制作了带有氧化铟锡(ITO)透明电极的微等离子体阵列,实验研究了该微等离子体阵列在30～100 kPa氖气中的放电特性和发光特性.不同微腔尺寸的微等离子体阵列实验结果表明,对于微腔直径为150μm的器件,击穿电压随着工作气压的升高先下降后上升,并且在53.2 kPa时达到最小值212 V.通过对微腔直径为50μm和30μm器件的击穿电压比较发现,在气压较低时,微腔尺寸大的器件更容易击穿,当气压较高时,微腔尺寸小的器件更容易击穿,并且微腔尺寸小的器件随着气压的升高击穿电压下降得更快.与目前商业等离子体显示器件(PDP)的击穿电压相比,微腔器件的击穿电压更低,而且在高气压下,采用更小的微腔作为PDP的显示单元,可以提高PDP的分辨率.
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| 关 键 词： | 微等离子体阵列 微腔放电 铝衬底 击穿电压 |
Microplasma Arrays Fabricated in Aluminum Substrate and Its Photoelectric Characteristics |
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| MENG Lingguo,LIANG Zhihu,LIU Chunliang,LIANG Haifeng,ZHANG Xiaoyun.Microplasma Arrays Fabricated in Aluminum Substrate and Its Photoelectric Characteristics[J].Journal of Xi'an Jiaotong University,2008,42(8). |
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| Authors: | MENG Lingguo LIANG Zhihu LIU Chunliang LIANG Haifeng ZHANG Xiaoyun |
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