直流电弧等离子体射流法沉积金刚石薄膜 |
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引用本文: | 白亦真.直流电弧等离子体射流法沉积金刚石薄膜[J].科学通报,1991,36(19):1454-1454. |
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作者姓名: | 白亦真 |
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作者单位: | 吉林大学原于与分于物理研究所,吉林大学原于与分于物理研究所,吉林大学原于与分于物理研究所,吉林大学原于与分于物理研究所 长春 130023,长春 130023,长春 130023,长春 130023 |
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摘 要: | 金刚石以其卓越的理化性能而受到人们普遍重视。近年来兴起的低压气相合成法,为金刚石在各领域中的更广泛应用提供了光明的前景。但诸多种低压合成法的不足之处在于金刚石的沉积速率还比较低,在某种程度上限制了它的应用范围。直到80年代末,才在日本出现了一种高速沉积金刚石薄膜的方法,就是直流电弧等离子体射流方法,其沉积速率比其它低压法要高几倍到几十倍。
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关 键 词: | 金刚石薄膜 直流电弧 等离子体射流 |
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