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直流电弧等离子体射流法沉积金刚石薄膜
引用本文:白亦真.直流电弧等离子体射流法沉积金刚石薄膜[J].科学通报,1991,36(19):1454-1454.
作者姓名:白亦真
作者单位:吉林大学原于与分于物理研究所,吉林大学原于与分于物理研究所,吉林大学原于与分于物理研究所,吉林大学原于与分于物理研究所 长春 130023,长春 130023,长春 130023,长春 130023
摘    要:金刚石以其卓越的理化性能而受到人们普遍重视。近年来兴起的低压气相合成法,为金刚石在各领域中的更广泛应用提供了光明的前景。但诸多种低压合成法的不足之处在于金刚石的沉积速率还比较低,在某种程度上限制了它的应用范围。直到80年代末,才在日本出现了一种高速沉积金刚石薄膜的方法,就是直流电弧等离子体射流方法,其沉积速率比其它低压法要高几倍到几十倍。

关 键 词:金刚石薄膜  直流电弧  等离子体射流
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