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| 涂层成份及结构的X射线光电子谱分析 | |
| 引用本文： | 马柳莺,刘华佾,赖永玲,刘国纯.涂层成份及结构的X射线光电子谱分析[J].中南大学学报(自然科学版),1994(4). |
| 作者姓名： | 马柳莺 刘华佾 赖永玲 刘国纯 |
| 作者单位： | 中南工业大学材料科学与工程系 |
| 基金项目： | 国家“八五”科技攻关计划基金 |
| 摘 要： | 以硬质合金作为衬底，分别采用了化学涂层（ＣＶＤ）和物理化学涂层（ＰＣＶＤ）的技术涂复Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）－ＴｉＮ硬质膜，应用Ｘ射线光电子谱分析（ＸＰＳ）技术，研究涂层表面化学成分、元素化学状态、物相组成及其随深度的变化。涂层表面由Ｔｉ，Ｎ，Ｃ，Ｏ和Ｃｏ组成；表面物相包括ＴｉＮ，ＴｉＯ＿ｘ及ＣｏＯ．随着深度的增加，Ｔｉ：Ｎ迅速变为１，而ＴｉＯ＿ｘ和ＣｏＯ含量急剧减少． |
| 关 键 词： | 化学涂层 成分 相 物理化学涂层 |
XPS ANALYSES OF THE CHEMICAL INGREDIENT AND THE PHASE COMPOSITION OF THE COATINGS |
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| Keywords: | |
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