| 基团电负性与三甲基硅烷衍生物的标准生成热 |
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| 引用本文： | 韩长日.基团电负性与三甲基硅烷衍生物的标准生成热[J].湖北师范学院学报(自然科学版),1990(2). |
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| 作者姓名： | 韩长日 |
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| 作者单位： | Department of Chemistry，Hubei Normal university |
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| 摘 要： | 利用前文建立的基因电负性,通过分析ΔΔfH~0(MeSiX/CH_3X)与基团电负性XG的关系,本文建立了两个计算ΔfH(Me_3SiX)的公式: ΔfH~0(Me_3SiX)=ΔfH~0(CH_3X)-15.18X_G-19.70 ΔfH~0(Me_3SiX)=ΔfH~0(HX)+(6.05p-15.18)X_G-16.08p-19.70 式中,X_G为基团X的电负性;X=F.0H、NH_2、Cl Br、SH.I.ΔfH~0(Me_3SiX)和ΔfH~0(HX)分别为Me_3SiX、CH_3X和HX的标准生成热,P为分子HX中氢原子的个数。两式计算的平均偏差分别为0.99 Kcal/mol和0.84Kcal/mol。同时,导出了一个计算Me_3Si—X键的键裂能的方法: DH(Me_3Si—X)=DH(CH_2—X)+15.18X_G-16.2, X=F、OH、NH_2、Cl、Br、SH、上式计算的平均偏差为0.99Kcal/mol。
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| 关 键 词： | 三甲基硅烷衍生物 基团电负性 标准生成热 键裂能 计算 |
STUDY ON THE GROUP ELECTRONEGATIUITY XI GROUP ELECTRONEGATIVITY AND HEATS OF FORMATION OF TRIMETHYLSILANE DERIVATIVES |
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| Han Chang-Ri.STUDY ON THE GROUP ELECTRONEGATIUITY XI GROUP ELECTRONEGATIVITY AND HEATS OF FORMATION OF TRIMETHYLSILANE DERIVATIVES[J].Journal of Hubei Normal University(Natural Science),1990(2). |
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| Authors: | Han Chang-Ri |
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| Keywords: | Trimethysilane Derivatives Group Electronegatvity Standard Heats of Formation Bond Dissociation Energy Calculation |
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