| 正电子在非晶态Ni-P合金镀层中的注入与湮没 |
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| 引用本文： | 姚士冰,蒋晓瑜,方江陵,周绍民.正电子在非晶态Ni-P合金镀层中的注入与湮没[J].厦门大学学报(自然科学版),1990(5). |
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| 作者姓名： | 姚士冰 蒋晓瑜 方江陵 周绍民 |
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| 作者单位： | 厦门大学化学系，厦门大学化学系，厦门大学物理学系，厦门大学化学系 物理化学研究所，物理化学研究所，物理化学研究所 |
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| 摘 要： | 测量了正电子在化学沉积的非晶态Ni-P合金镀层中的透射强度,借此求得正电子在该镀层中的有效质量吸收系数和注入剖面。研究了磷含量和热处理对化学沉积和电沉积的非晶态Ni-P合金结构缺陷的影响。
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| 关 键 词： | 非晶态Ni-P合金 化学沉积 正电子 注入剖面 缺陷 |
Positron Implantation and Annihilation in Amorphous Ni-P Alloy |
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| Yao Shibing Jiang Xiaoyu Fang Jiangling Zhou Shaomin Dept.of Chem.. Inst. of Phys. Chem..Positron Implantation and Annihilation in Amorphous Ni-P Alloy[J].Journal of Xiamen University(Natural Science),1990(5). |
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| Authors: | Yao Shibing Jiang Xiaoyu Fang Jiangling Zhou Shaomin Deptof Chem Inst of Phys Chem |
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| Institution: | Yao Shibing Jiang Xiaoyu Fang Jiangling Zhou Shaomin Dept.of Chem.. Inst. of Phys. Chem. |
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| Abstract: | The positron transmitted intensity, effective mass absorption coefficient and implantation profile in electroless deposits of amorphous Ni-P(25at.%) alloy on annealed pure Cu substrate were determined and calculated. The effects of P content in alloy and thermal treatment on struc ture of deposited amorphous Ni-P alloys were also studied. |
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| Keywords: | Amorphous Ni-P alloy Eleciroless deposits Positron Implantation profile Defect |
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