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电子温度对SiGeHBT基区渡越时间的影响
引用本文:李蕊,杨双健,王宗满,彭波,陈海俊.电子温度对SiGeHBT基区渡越时间的影响[J].重庆工商大学学报(自然科学版),2009,23(12):176-178.
作者姓名:李蕊  杨双健  王宗满  彭波  陈海俊
作者单位:重庆理工大学数理学院,重庆400054r
摘    要:讨论了采用能量传输模型时的SiGeHBT基区电子温度分布,以及电子温度对基区渡越时间的影响.计算结果表明:基区电子温度呈现明显的不均匀分布,从发射极侧到集电极侧逐渐增大;电子温度分布主要由基区Ge分布决定,而基区掺杂对电子温度的影响不大.考虑基区电子温度分布时基区渡越时间减小,在较大的Ge分布梯度下,电子温度对基区渡越时间的影响不可忽略.

关 键 词:SiGe  HBT  电子温度  基区渡越时间
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