| 基于RC网络集成电路的多晶硅薄膜电阻工艺优化 |
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| 引用本文： | 万鹏程,刘世龙,孙芳魁.基于RC网络集成电路的多晶硅薄膜电阻工艺优化[J].哈尔滨师范大学自然科学学报,2008,24(5). |
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| 作者姓名： | 万鹏程 刘世龙 孙芳魁 |
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| 作者单位： | 1. 哈尔滨学院
2. 哈尔滨工业大学 |
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| 基金项目： | 黑龙江省教育厅科学技术研究项目
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| 摘 要： | 介绍基于RC1]网络集成电路中的制作多晶硅电阻工艺和掺杂方法,并详细阐述了这种方法的工艺过程和控制方式.利用LPCVD方式制作多晶硅薄膜,可以得到很好的膜层均匀性和最佳的淀积速率,再利用POCl3进行高温掺杂2],得到优化的电阻率,灵活改变各种参数,可使电阻的精度优于5%.
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| 关 键 词： | 多晶硅 RC网络 掺杂工艺 薄膜电阻 |
OPTIMIZATION PROCESS OF POLY-SILICON THIN-FILM RESISTOR IN RC NETWORK IC |
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| Wan Pengcheng,Liu Shilong,Sun Fangkui.OPTIMIZATION PROCESS OF POLY-SILICON THIN-FILM RESISTOR IN RC NETWORK IC[J].Natural Science Journal of Harbin Normal University,2008,24(5). |
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| Authors: | Wan Pengcheng Liu Shilong Sun Fangkui |
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